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一種釹含量低硬磁性能高的磁性薄膜研制成功
- 分類:新聞資訊
- 作者:
- 來(lái)源:
- 發(fā)布時(shí)間:2020-07-14 15:31
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【概要描述】由日本國(guó)家材料科學(xué)研究院Kazuhire Hono博士領(lǐng)銜的課題組合成了一種新型磁性化合物,其釹含量比目前流行的釹鐵硼低。 這種新型磁性化合物化學(xué)式為NdFe12N,釹含量17%,而釹鐵硼的釹含量為27%,但前者的內(nèi)稟硬磁性能高于后者。 尤其值得注意的是,這種新型磁性化合物的居里溫度比釹鐵硼高200度。 在以往稀土磁體研究中曾出現(xiàn)過(guò)化學(xué)式為NdFe11TiN的磁性化合物,鈦雖然是非磁性的,但加入鈦才能使該化合物保持穩(wěn)定,但正因?yàn)楹?,該化合物的磁性不如釹鐵硼,因而沒(méi)有受到多大關(guān)注。由于該化合物不加鈦不穩(wěn)定,以前的研究工作均未成功。而本研究在不加鈦的情況下成功制備出了這種化合物。 NdFe12Nx為T(mén)hMn12結(jié)構(gòu),合成步驟為:先在MgO(001)基質(zhì)上沉積一層鎢,再在其上生長(zhǎng)NdFe12薄膜,然后對(duì)NdFe12薄膜進(jìn)行氮化。其內(nèi)稟硬磁性能:μO(píng)Ms約為1.66 T, μO(píng)Ha為8T, Tc為550攝氏度,全部超釹鐵硼。 NdFe12薄膜是用濺射法制備的,其厚度可達(dá)350納米。 該課題組下一步的方向是確立制備大量磁粉及塊狀磁體的技術(shù)路線。
一種釹含量低硬磁性能高的磁性薄膜研制成功
【概要描述】由日本國(guó)家材料科學(xué)研究院Kazuhire Hono博士領(lǐng)銜的課題組合成了一種新型磁性化合物,其釹含量比目前流行的釹鐵硼低。 這種新型磁性化合物化學(xué)式為NdFe12N,釹含量17%,而釹鐵硼的釹含量為27%,但前者的內(nèi)稟硬磁性能高于后者。 尤其值得注意的是,這種新型磁性化合物的居里溫度比釹鐵硼高200度。 在以往稀土磁體研究中曾出現(xiàn)過(guò)化學(xué)式為NdFe11TiN的磁性化合物,鈦雖然是非磁性的,但加入鈦才能使該化合物保持穩(wěn)定,但正因?yàn)楹仯摶衔锏拇判圆蝗玮S鐵硼,因而沒(méi)有受到多大關(guān)注。由于該化合物不加鈦不穩(wěn)定,以前的研究工作均未成功。而本研究在不加鈦的情況下成功制備出了這種化合物。 NdFe12Nx為T(mén)hMn12結(jié)構(gòu),合成步驟為:先在MgO(001)基質(zhì)上沉積一層鎢,再在其上生長(zhǎng)NdFe12薄膜,然后對(duì)NdFe12薄膜進(jìn)行氮化。其內(nèi)稟硬磁性能:μO(píng)Ms約為1.66 T, μO(píng)Ha為8T, Tc為550攝氏度,全部超釹鐵硼。 NdFe12薄膜是用濺射法制備的,其厚度可達(dá)350納米。 該課題組下一步的方向是確立制備大量磁粉及塊狀磁體的技術(shù)路線。
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由日本國(guó)家材料科學(xué)研究院Kazuhire Hono博士領(lǐng)銜的課題組合成了一種新型磁性化合物,其釹含量比目前流行的釹鐵硼低。 這種新型磁性化合物化學(xué)式為NdFe12N,釹含量17%,而釹鐵硼的釹含量為27%,但前者的內(nèi)稟硬磁性能高于后者。 尤其值得注意的是,這種新型磁性化合物的居里溫度比釹鐵硼高200度。 在以往稀土磁體研究中曾出現(xiàn)過(guò)化學(xué)式為NdFe11TiN的磁性化合物,鈦雖然是非磁性的,但加入鈦才能使該化合物保持穩(wěn)定,但正因?yàn)楹?,該化合物的磁性不如釹鐵硼,因而沒(méi)有受到多大關(guān)注。由于該化合物不加鈦不穩(wěn)定,以前的研究工作均未成功。而本研究在不加鈦的情況下成功制備出了這種化合物。 NdFe12Nx為T(mén)hMn12結(jié)構(gòu),合成步驟為:先在MgO(001)基質(zhì)上沉積一層鎢,再在其上生長(zhǎng)NdFe12薄膜,然后對(duì)NdFe12薄膜進(jìn)行氮化。其內(nèi)稟硬磁性能:μOMs約為1.66 T, μOHa為8T, Tc為550攝氏度,全部超釹鐵硼。 NdFe12薄膜是用濺射法制備的,其厚度可達(dá)350納米。 該課題組下一步的方向是確立制備大量磁粉及塊狀磁體的技術(shù)路線。
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